Two-dimension atom nano-lithograph via atom localization
文献类型:期刊论文
作者 | Luling Jin ; Hui Sun ; Yueping Niu ; Shiqi Jin ; Shangqing Gong |
刊名 | j mod. opt.
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出版日期 | 2009 |
期号 | 56页码:805 |
合作状况 | 其它 |
收录类别 | 其他 |
语种 | 中文 |
WOS记录号 | WOS:000265415700016 |
公开日期 | 2010-05-07 |
源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/6737] ![]() |
专题 | 上海光学精密机械研究所_强场激光物理国家重点实验室 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Luling Jin,Hui Sun,Yueping Niu,et al. Two-dimension atom nano-lithograph via atom localization[J]. j mod. opt.,2009(56):805. |
APA | Luling Jin,Hui Sun,Yueping Niu,Shiqi Jin,&Shangqing Gong.(2009).Two-dimension atom nano-lithograph via atom localization.j mod. opt.(56),805. |
MLA | Luling Jin,et al."Two-dimension atom nano-lithograph via atom localization".j mod. opt. .56(2009):805. |
入库方式: OAI收割
来源:上海光学精密机械研究所
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