磁控溅射沉积BCx薄膜的摩擦学性能
文献类型：期刊论文
| 作者 | 尚伦霖; 王立平 ; 张广安; 蒲吉斌
|
| 刊名 | 中国表面工程
 |
| 出版日期 | 2015 |
| 卷号 | 28期号:5页码:16-23 |
| 关键词 | BCx薄膜 磁控溅射 靶电流 摩擦学性能 BCx films magnetron sputtering target current tribological properties |
| ISSN号 | 1007-9289 |
| 通讯作者 | 张广安 |
| 中文摘要 | 探索具有优良摩擦学性能的BCx薄膜的制备方法具有重要意义, 文中采用闭合场非平衡磁控溅射碳化硼靶和石墨靶(纯度均为99.9%)的方法, 在38CrMoAl齿轮钢和Si(100)表面沉积BCx薄膜, 利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)、拉曼光谱、纳米压入仪、CSM摩擦磨损试验机和X射线光电子能谱仪(XPS)分别分析了BCx薄膜的结构特征、力学性能和摩擦磨损性能, 得到了石墨靶电流对碳化硼薄膜结构和性能的影响规律。结果表明: 相同的沉积时间内, BCx薄膜的厚度随石墨靶电流的增加逐渐增大, 硬度、弹性模量逐渐降低,微观形貌的柱状结构特征越来越明显; 增加石墨靶电流可以提高BCx薄膜的摩擦学性能, 当石墨靶电流为2.4A时, BCx薄膜的摩擦因数稳定在0.2左右, 且具有最佳的耐磨性能。 |
| 学科主题 | 低维材料摩擦学 |
| 收录类别 | CSCD |
| 资助信息 | 国家自然科学基金(51322508;51305433) |
| 语种 | 中文 |
| 源URL | [http://210.77.64.217/handle/362003/18704]  |
| 专题 | 兰州化学物理研究所_固体润滑国家重点实验室 |
| 作者单位 | Lanzhou Institute of Chemical Physics, Chinese Academy of Sciences |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 尚伦霖,王立平,张广安,等. 磁控溅射沉积BCx薄膜的摩擦学性能[J]. 中国表面工程,2015,28(5):16-23. |
| APA | 尚伦霖,王立平,张广安,&蒲吉斌.(2015).磁控溅射沉积BCx薄膜的摩擦学性能.中国表面工程,28(5),16-23. |
| MLA | 尚伦霖,et al."磁控溅射沉积BCx薄膜的摩擦学性能".中国表面工程 28.5(2015):16-23. |
入库方式： OAI收割
来源：兰州化学物理研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。