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STUDY OF THE QUALITY OF GAAS THIN-FILM ON SI SUBSTRATE BY X-RAY-DIFFRACTION METHOD

文献类型:期刊论文

作者LI CR ; MAI ZH ; CUI SF ; ZHOU JM ; WANG YT
刊名chinese physics letters
出版日期1990
卷号7期号:7页码:308-311
ISSN号0256-307x
通讯作者li cr acad sinicainst physbeijing 100080peoples r china
学科主题半导体物理
收录类别SCI
语种英语
公开日期2010-11-15
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/14371]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
LI CR,MAI ZH,CUI SF,et al. STUDY OF THE QUALITY OF GAAS THIN-FILM ON SI SUBSTRATE BY X-RAY-DIFFRACTION METHOD[J]. chinese physics letters,1990,7(7):308-311.
APA LI CR,MAI ZH,CUI SF,ZHOU JM,&WANG YT.(1990).STUDY OF THE QUALITY OF GAAS THIN-FILM ON SI SUBSTRATE BY X-RAY-DIFFRACTION METHOD.chinese physics letters,7(7),308-311.
MLA LI CR,et al."STUDY OF THE QUALITY OF GAAS THIN-FILM ON SI SUBSTRATE BY X-RAY-DIFFRACTION METHOD".chinese physics letters 7.7(1990):308-311.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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