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硕士论文-硅纳米柱阵列结构的光学特性理论分析和工艺研究

文献类型:学位论文

作者廖元勋
学位类别硕士
答辩日期2009
授予单位中国科学院研究生院
授予地点北京
导师伊福廷
关键词氯化铯 硅纳米柱 反应离子刻蚀 时域有限差分法
学位专业光学
中文摘要近些年来,硅纳米柱阵列因其某些优异性能在许多领域得到了广泛关注,比如高密度存储,传感器,微机械,场发射,锂电池等。特别是在太阳能电池领域,硅纳米柱阵列对太阳光谱具有很强的散射和减反射作用,这对太阳能电池而言有着很好的应用潜力;而且硅纳米线光电池已成为当前的研究热点。本文从硅纳米柱在太阳能电池中的应用出发,利用二维时域有限差分法(FDTD),计算了硅纳米柱阵列的光学特性,从理论上详细研究了硅纳米柱阵列光学减反和散射机理。纳米柱结构的散射能力很强,直径100nm以下的结构能散射90%以上的入射光;反射机制主要由布拉格反射决定,反射率呈现周期性变化,同时受散射影响,周期在四分之一波长附近浮动,而且强散射导致反射率对入射角不敏感,此外对整个太阳光谱而言最小反射率可以低于10%。本文还利用氯化铯(CsCl)纳米岛光刻技术开展了硅纳米柱阵列制备的工艺研究,包括氯化铯纳米岛结构自组装生长,以氯化铯纳米岛结构作为掩模的硅纳米柱阵列的反应离子刻蚀(RIE)制备。通过大量的试验探索,优化了反应气体组合,反应气体流速,刻蚀功率和时间等参数,成功地在当前设备条件下实现了高宽比接近2:1的纳米柱状阵列结构的制备。
学科主题光学
语种中文
公开日期2016-02-25
源URL[http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/210407]  
专题多学科研究中心_学位论文和出站报告
作者单位中国科学院高能物理研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
廖元勋. 硕士论文-硅纳米柱阵列结构的光学特性理论分析和工艺研究[D]. 北京. 中国科学院研究生院. 2009.

入库方式: OAI收割

来源:高能物理研究所

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