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用样条函数拟配Ge(Li)γ谱仪效率曲线方法

文献类型:期刊论文

作者刘承安; 汤乃勋; 冯锡璋
刊名核技术
出版日期1984
期号6页码:21-26+65
关键词曲线拟合 效率刻度 γ谱 样条函数 逐步回归 极小信息理论准则
其他题名FITTING EFFICIENCY CURVE OF GAMMA-RAY SPECTROMETRIC INSTRUMENT BY SPLINE
中文摘要本文采用三阶样条函数作为Ge(Li)γ谱仪效率曲线模型,使用并改进了逐步回归算法,利用AIC检验等手段对模型加以优化,解决了分点数量、最佳分点位置及分点处的连续性等问题。所得模型具有参数少、精度高等优点。 利用本方法对本实验室所用185cm~3同轴Ge(Li)探测器进行效率刻度,在59~1408keV范围内,所得模型都只含3个参数,精度为2.5%左右。利用刻度好的系统标定~(152)Eu的发射率,与国际比对值相比,偏差≤3%。
公开日期2016-02-25
源URL[http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/220804]  
专题高能物理研究所_多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
刘承安,汤乃勋,冯锡璋. 用样条函数拟配Ge(Li)γ谱仪效率曲线方法[J]. 核技术,1984(6):21-26+65.
APA 刘承安,汤乃勋,&冯锡璋.(1984).用样条函数拟配Ge(Li)γ谱仪效率曲线方法.核技术(6),21-26+65.
MLA 刘承安,et al."用样条函数拟配Ge(Li)γ谱仪效率曲线方法".核技术 .6(1984):21-26+65.

入库方式: OAI收割

来源:高能物理研究所

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