关于离子源供气气压稳定性的探讨
文献类型:期刊论文
作者 | 吴日光 |
刊名 | 原子能科学技术
![]() |
出版日期 | 1986 |
期号 | 6页码:751-755 |
关键词 | 离子源气压稳定 超纯氢发生器 质量流量控制器 气体稳压阀 |
其他题名 | APPROACH CONCERNING STABILITY OF GAS PRESSURE IN ION SOURCE |
通讯作者 | 吴日光 |
中文摘要 | 一、前言随着离子源应用范围的扩展,对其工作稳定性的要求也越来越高。为改善离子源的工作特性,必须维持放电参数的稳定。放电参数主要取决于放电电流、磁场和放电室气压。其中,气压的稳定性对放电等离子体密度、引出离子束流、质子比及离子电荷数的影响最为明显。由图1,2,3,4可见,在最佳气压下,离子密度、质子比、引出离子束流出现峰值,最佳值两侧则明显下降。通常,离子源都希望选在最佳气压下工作。因此,保持气压的稳定性十分重要。对于直流工作状态的离子源尤其如此。 |
公开日期 | 2016-02-25 |
源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/220954] ![]() |
专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 吴日光. 关于离子源供气气压稳定性的探讨[J]. 原子能科学技术,1986(6):751-755. |
APA | 吴日光.(1986).关于离子源供气气压稳定性的探讨.原子能科学技术(6),751-755. |
MLA | 吴日光."关于离子源供气气压稳定性的探讨".原子能科学技术 .6(1986):751-755. |
入库方式: OAI收割
来源:高能物理研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。