无标样厚靶PIXE分析中数值方法的应用
文献类型：期刊论文
| 作者 | 范钦敏; 钟溟 |
| 刊名 | 高能物理与核物理
 |
| 出版日期 | 1988 |
| 期号 | 1页码:6--11 |
| 关键词 | 厚靶 PIXE 基体元素 待测元素 射线强度 基体效应 次级电子 质子束 数值方法 荧光产额 |
| 其他题名 | THE NUMERICAL CALCULATION USED IN THICK TARGET PXE ANALYSES |
| 通讯作者 | 范钦敏 |
| 中文摘要 | 本文用数值方法对厚靶PIXE分析中所测得的特征K-X射线强度进行修正,修正包括入射质子在靶中的慢化,特征X射线在厚样中的吸收以及基体元素的特征X射线引发的待测元素X射线的增强等。同时,为了进行无标样分析,同蒙特卡罗方法对整个分析系统作了效率刻度。在此基础上,对一些自制的标准厚样进行了PIXE实验分析,分析结果与已知值有较好的符合。 |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221033]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 范钦敏,钟溟. 无标样厚靶PIXE分析中数值方法的应用[J]. 高能物理与核物理,1988(1):6--11. |
| APA | 范钦敏,&钟溟.(1988).无标样厚靶PIXE分析中数值方法的应用.高能物理与核物理(1),6--11. |
| MLA | 范钦敏,et al."无标样厚靶PIXE分析中数值方法的应用".高能物理与核物理 .1(1988):6--11. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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