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SURFACE DIPOLE AND FERMI-LEVEL POSITION ON CLEAN, OXYGEN-COVERED, AND WATER-COVERED CYLINDRICAL SI CRYSTALS - A PHOTOELECTRON-SPECTROSCOPY STUDY

文献类型:期刊论文

作者RANKE W ; XING YR
刊名physical review b
出版日期1985
卷号31期号:4页码:2246-2253
ISSN号0163-1829
通讯作者ranke w max planck gesellfritz haber instfaradayweg 4-6d-1000 berlin 33fed rep ger
学科主题半导体物理
收录类别SCI
语种英语
公开日期2010-11-15
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/14761]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
RANKE W,XING YR. SURFACE DIPOLE AND FERMI-LEVEL POSITION ON CLEAN, OXYGEN-COVERED, AND WATER-COVERED CYLINDRICAL SI CRYSTALS - A PHOTOELECTRON-SPECTROSCOPY STUDY[J]. physical review b,1985,31(4):2246-2253.
APA RANKE W,&XING YR.(1985).SURFACE DIPOLE AND FERMI-LEVEL POSITION ON CLEAN, OXYGEN-COVERED, AND WATER-COVERED CYLINDRICAL SI CRYSTALS - A PHOTOELECTRON-SPECTROSCOPY STUDY.physical review b,31(4),2246-2253.
MLA RANKE W,et al."SURFACE DIPOLE AND FERMI-LEVEL POSITION ON CLEAN, OXYGEN-COVERED, AND WATER-COVERED CYLINDRICAL SI CRYSTALS - A PHOTOELECTRON-SPECTROSCOPY STUDY".physical review b 31.4(1985):2246-2253.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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