掠入射、全反射及其在X射线荧光分析中的应用
文献类型：期刊论文
| 作者 | 刘亚雯 |
| 刊名 | 物理
 |
| 出版日期 | 1993 |
| 期号 | 10页码:614-618 |
| 关键词 | 射线荧光分析 掠入射 反射技术 杂质分析 微量元素分析 反射体 表面分析 检测限 入射角度 及超 |
| 通讯作者 | 刘亚雯 |
| 中文摘要 | 掠入射、全反射技术应用于化学的微量及超微量元素分析和表面分析，给X射线荧光分析技术带来了突破性的发展．目前，利用全反射X荧光分析技术对微量元素进行分析，其检测限已达到ｐg级，硅片表层杂质分析的检测限达到10９个原子／ｃｍ２．文章介绍了该技术的基本理论和特点、近年来国内外发展情况及应用的例子． |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221301]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘亚雯. 掠入射、全反射及其在X射线荧光分析中的应用[J]. 物理,1993(10):614-618. |
| APA | 刘亚雯.(1993).掠入射、全反射及其在X射线荧光分析中的应用.物理(10),614-618. |
| MLA | 刘亚雯."掠入射、全反射及其在X射线荧光分析中的应用".物理 .10(1993):614-618. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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