纳米厚度非透明介质薄膜的测量
文献类型：期刊论文
| 作者 | 缪建伟; 崔明启 ; 唐鄂生; 修立松
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| 刊名 | 光学精密工程
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| 出版日期 | 1994 |
| 期号 | 1页码:21--25 |
| 关键词 | 椭偏仪 台阶仪 多次入射选择最佳法 |
| 其他题名 | MEASURING AND CALCULATING THE THICKNESS OF NON-TRANSPARENT DIELECTRIC THIN FILM |
| 通讯作者 | 缪建伟 |
| 中文摘要 | 本文叙述了用椭偏仪多次入射选择最佳法测量纳米厚度非透明薄膜原理及方法，给出了由此方法测量得到的数据和用迭代法（下降法）计算得到的膜厚结果，并与台阶仪测试结果进行了比较。 |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221331]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 缪建伟,崔明启,唐鄂生,等. 纳米厚度非透明介质薄膜的测量[J]. 光学精密工程,1994(1):21--25. |
| APA | 缪建伟,崔明启,唐鄂生,&修立松.(1994).纳米厚度非透明介质薄膜的测量.光学精密工程(1),21--25. |
| MLA | 缪建伟,et al."纳米厚度非透明介质薄膜的测量".光学精密工程 .1(1994):21--25. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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