多层膜界面粗糙度的低角X射线衍射研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王凤平; 崔明启 ; 王佩璇; 方正知
|
| 刊名 | 金属学报
 |
| 出版日期 | 1996 |
| 期号 | 7页码:774-779 |
| 关键词 | 多层膜 磁控溅射 低角X射线衍射 界面粗糙度 |
| 其他题名 | STUDY OF MULTILAYER INTERFACE ROUGHNESS BY LOW-ANGLE X-RAY DIFFRACTION |
| 中文摘要 | 对磁控溅射方法制备的Ｗ／Ｓｉ周期多层膜在Ｘ射线衍时仪上进行了低角Ｘ射线衍射实验，并用动力学理论分析了膜层的周期结构和界面粗糙度，在对实验谱线的拟合过程中，考虑了界面的不对称性、周期的随机涨落及系统偏差等因素对衍射强度的影响，并讨论了各个参量对衍射强度影响的程度． |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221486]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王凤平,崔明启,王佩璇,等. 多层膜界面粗糙度的低角X射线衍射研究[J]. 金属学报,1996(7):774-779. |
| APA | 王凤平,崔明启,王佩璇,&方正知.(1996).多层膜界面粗糙度的低角X射线衍射研究.金属学报(7),774-779. |
| MLA | 王凤平,et al."多层膜界面粗糙度的低角X射线衍射研究".金属学报 .7(1996):774-779. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。