同步辐射x射线光刻实验研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 谢常青; 陈梦真; 赵玲莉; 孙宝银; 韩敬东; 朱樟震; 张菊芳
|
| 刊名 | 半导体技术
 |
| 出版日期 | 1997 |
| 期号 | 6页码:2 |
| 关键词 | 同步辐射x射线光刻 x射线掩模 侧墙工艺 |
| 中文摘要 | 采用侧墙工艺技术研制深亚微米ｘ射线掩模，并在北京同步辐射装置光刻束线上进行了同步辐射ｘ射线曝光实验，初步获得了深亚微米光刻图形 |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221529]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 谢常青,陈梦真,赵玲莉,等. 同步辐射x射线光刻实验研究[J]. 半导体技术,1997(6):2. |
| APA | 谢常青.,陈梦真.,赵玲莉.,孙宝银.,韩敬东.,...&张菊芳.(1997).同步辐射x射线光刻实验研究.半导体技术(6),2. |
| MLA | 谢常青,et al."同步辐射x射线光刻实验研究".半导体技术 .6(1997):2. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。