Mo/SiO_2软X射线多层膜的结构研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王凤平; 王佩璇; 方正知; 崔明启 ; 王德武
|
| 刊名 | 电子显微学报
 |
| 出版日期 | 1997 |
| 期号 | 4页码:2 |
| 关键词 | 磁控溅射 Mo/SiO_2 周期结构 粗糙度 同步辐射装置 递推公式 结构研究 衍射谱 缓冲层 直流溅射 |
| 中文摘要 | 本文用磁控溅射方法制备了几种Ｍｏ／ＳｉＯ２多层膜。在北京同步辐射装置（ＢＳＲＦ）的衍射站上测量了其低角Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）谱，并利用基于光学动力学理论的递推公式对低角Ｘ射线衍射谱进行了拟合，定量分析了膜层的周期结构和界面粗糙度以及界面粗糙度与层数、层厚的关系。同时用高分辨电子显微镜（ＨＲＥＭ）对一样品的截面进行了观察。 |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221536]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王凤平,王佩璇,方正知,等. Mo/SiO_2软X射线多层膜的结构研究[J]. 电子显微学报,1997(4):2. |
| APA | 王凤平,王佩璇,方正知,崔明启,&王德武.(1997).Mo/SiO_2软X射线多层膜的结构研究.电子显微学报(4),2. |
| MLA | 王凤平,et al."Mo/SiO_2软X射线多层膜的结构研究".电子显微学报 .4(1997):2. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
浏览0
下载0
收藏0
其他版本
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。