Mo/SiO_2软X射线多层膜反射镜的界面分析
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王凤平; 王佩璇; 方正知; 崔明启 ; 姜晓明; 马宏骥
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| 刊名 | 金属学报
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| 出版日期 | 1997 |
| 期号 | 7页码:737-741 |
| 关键词 | Mo／SiO_2多层膜 磁控溅射 同步辐射 低角X射线衍射 俄歇电子能谱 |
| 其他题名 | THE INTERFACIAL ANALYSIS OF Mo/SiO2 MULTILAYERS MIRROR FOR SOFT X-RAY |
| 中文摘要 | 用X射线衍射的动力学理论对磁控溅射法制备的Mo／SiO2多层膜低角X射线衍射谱进行拟合，定量分析了膜层的周期结构和界面粗糙度．同时，用Auger电子能谱证实了多层膜成分的周期性以及比较明晰的层界面随样品厚度的增加，界面粗糙度增加． |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221564]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王凤平,王佩璇,方正知,等. Mo/SiO_2软X射线多层膜反射镜的界面分析[J]. 金属学报,1997(7):737-741. |
| APA | 王凤平,王佩璇,方正知,崔明启,姜晓明,&马宏骥.(1997).Mo/SiO_2软X射线多层膜反射镜的界面分析.金属学报(7),737-741. |
| MLA | 王凤平,et al."Mo/SiO_2软X射线多层膜反射镜的界面分析".金属学报 .7(1997):737-741. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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