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短波长软X射线多层膜高级次峰设计与制备

文献类型:期刊论文

作者邵建达; 易葵; 范正修; 王润文; 崔明启
刊名物理学报
出版日期1997
期号11页码:9
关键词波长范围 磁控溅射 衍射峰 膜系 光学常数 光学特性 次峰 不连续 辐射测量 反射峰
其他题名DESIGN OF SOFT X-RAY MULTILAYERS FOR SHORTER WAVELENGTHS
中文摘要考虑了短波长软X射线多层膜的设计问题,比较了一、二、三级布喇格衍射峰设计的反射率结果,分析了反射率与周期厚度及金属层在周期中的比率的关系.本文认为,在存在不连续金属膜层的情况下,用布喇格衍射峰的二级次设计,有助于获得实测的反射率.给出了利用磁控溅射方法沉积的Mo/Si多层膜在447nm处同步辐射测量,在60°入射角下获得85%实测反射率的结果.
公开日期2016-02-25
源URL[http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221581]  
专题高能物理研究所_多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
邵建达,易葵,范正修,等. 短波长软X射线多层膜高级次峰设计与制备[J]. 物理学报,1997(11):9.
APA 邵建达,易葵,范正修,王润文,&崔明启.(1997).短波长软X射线多层膜高级次峰设计与制备.物理学报(11),9.
MLA 邵建达,et al."短波长软X射线多层膜高级次峰设计与制备".物理学报 .11(1997):9.

入库方式: OAI收割

来源:高能物理研究所

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