短波长软X射线多层膜高级次峰设计与制备
文献类型:期刊论文
作者 | 邵建达; 易葵; 范正修; 王润文; 崔明启![]() |
刊名 | 物理学报
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出版日期 | 1997 |
期号 | 11页码:9 |
关键词 | 波长范围 磁控溅射 衍射峰 膜系 光学常数 光学特性 次峰 不连续 辐射测量 反射峰 |
其他题名 | DESIGN OF SOFT X-RAY MULTILAYERS FOR SHORTER WAVELENGTHS |
中文摘要 | 考虑了短波长软X射线多层膜的设计问题,比较了一、二、三级布喇格衍射峰设计的反射率结果,分析了反射率与周期厚度及金属层在周期中的比率的关系.本文认为,在存在不连续金属膜层的情况下,用布喇格衍射峰的二级次设计,有助于获得实测的反射率.给出了利用磁控溅射方法沉积的Mo/Si多层膜在447nm处同步辐射测量,在60°入射角下获得85%实测反射率的结果. |
公开日期 | 2016-02-25 |
源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221581] ![]() |
专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 邵建达,易葵,范正修,等. 短波长软X射线多层膜高级次峰设计与制备[J]. 物理学报,1997(11):9. |
APA | 邵建达,易葵,范正修,王润文,&崔明启.(1997).短波长软X射线多层膜高级次峰设计与制备.物理学报(11),9. |
MLA | 邵建达,et al."短波长软X射线多层膜高级次峰设计与制备".物理学报 .11(1997):9. |
入库方式: OAI收割
来源:高能物理研究所
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