TiAl金属间化合物的淬火缺陷研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王宝义 ; 张水合; 常晶; 王天民
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| 刊名 | 核技术
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| 出版日期 | 1998 |
| 期号 | 4页码:217-221 |
| 关键词 | TiAl 淬火缺陷 等时退火 正电子寿命 |
| 其他题名 | STUDY OF QUENCHED - IN DEFECTS IN INTERMETALLIC COMPOUND TiAl BY POSITRIN ANNIHILATION |
| 通讯作者 | 王宝义 |
| 中文摘要 | 采用正电子寿命谱技术研究了ＴｉＡＩ以及ＴｉＡｌ金属间化合物的淬火缺陷及其回复行为。结果表明，充分退火ＴｉＡｌ试样中有一定数量的晶界存在；ＴｉＡｌ合金高温淬火过程中在产生大量空位的同时也产生了一定数量的空位团和空位－杂质原子复合体等二次缺陷，在３００－６００℃的温度范围内，由于这些复合缺陷的分解和迁移，使空位团进一步聚集长大。 |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221639]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王宝义,张水合,常晶,等. TiAl金属间化合物的淬火缺陷研究[J]. 核技术,1998(4):217-221. |
| APA | 王宝义,张水合,常晶,&王天民.(1998).TiAl金属间化合物的淬火缺陷研究.核技术(4),217-221. |
| MLA | 王宝义,et al."TiAl金属间化合物的淬火缺陷研究".核技术 .4(1998):217-221. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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