同步辐射X射线反射技术及其在测量δ掺杂晶体中原子表层深度分布的应用
文献类型：期刊论文
| 作者 | 贾全杰 ; 姜晓明; 蒋最敏
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| 刊名 | 理化检验(物理分册)
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| 出版日期 | 1998 |
| 期号 | 8页码:3--8 |
| 关键词 | X射线反射 同步辐射 分层副近法 δ掺杂 |
| 其他题名 | SYNCHROTRON RADIATION X-RAY REFLECTION TECHNIQUE AND ITS APPLICATION IN MEASUREMENT OF ATOMIC DEPTH DISTRIBUTION IN δ-DOPED Si CRYSTALS |
| 通讯作者 | 贾全杰 |
| 中文摘要 | X射线低角反射实验技术是测定固体材料表层中杂质原子深度分布的有效手段.利用同步辐射X射线反射技术和近年来发展的由反射实验数据逆向求解原子深度分布的分层逼近法,研究了不同温度下分子束外延生长的δ掺杂(Sb)Si晶体样品,成功地测量了样品中几个纳米范围内的Sb原子深度分布.所得结果表明,300℃以下是用分子束外延方法在Si晶体中生长Sb原子δ掺杂结构的合适温度. |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221658]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 贾全杰,姜晓明,蒋最敏. 同步辐射X射线反射技术及其在测量δ掺杂晶体中原子表层深度分布的应用[J]. 理化检验(物理分册),1998(8):3--8. |
| APA | 贾全杰,姜晓明,&蒋最敏.(1998).同步辐射X射线反射技术及其在测量δ掺杂晶体中原子表层深度分布的应用.理化检验(物理分册)(8),3--8. |
| MLA | 贾全杰,et al."同步辐射X射线反射技术及其在测量δ掺杂晶体中原子表层深度分布的应用".理化检验(物理分册) .8(1998):3--8. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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