高压及热处理对氮碳薄膜激光诱导荧光效率的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 赵菁; 车荣钲; 徐积仁; 康宁; 刘景 ; 杨洋
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| 刊名 | 高压物理学报
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| 出版日期 | 1999 |
| 期号 | 3页码:173-177 |
| 关键词 | 氮碳薄膜 金刚石高压容器 荧光光谱 |
| 其他题名 | EFFECTS OF HIGH PRESSURE AND THERMAL TREATMENTS ON PHOTOLUMINESCENCE EFFICIENCY OF CNx FILMS |
| 通讯作者 | 赵菁 |
| 中文摘要 | 应用激光激发荧光光谱实验对经热处理后及高压条件下的氮碳薄膜荧光光谱进行了测量分析。实验显示，热处理效应和高压效应均导致薄膜荧光效率降低，前者表现为不可恢复，后者为可恢复即卸压后荧光效率的恢复，表明导致荧光光谱效率降低的微观机制不同，为氮碳薄膜荧光模型提供了新的实验证据。 |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221702]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵菁,车荣钲,徐积仁,等. 高压及热处理对氮碳薄膜激光诱导荧光效率的影响[J]. 高压物理学报,1999(3):173-177. |
| APA | 赵菁,车荣钲,徐积仁,康宁,刘景,&杨洋.(1999).高压及热处理对氮碳薄膜激光诱导荧光效率的影响.高压物理学报(3),173-177. |
| MLA | 赵菁,et al."高压及热处理对氮碳薄膜激光诱导荧光效率的影响".高压物理学报 .3(1999):173-177. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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