0.5μm分辨率同步辐射X射线光刻技术
文献类型：期刊论文
| 作者 | 谢常青; 叶甜春; 孙宝银; 伊福廷
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| 刊名 | 微细加工技术
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| 出版日期 | 1999 |
| 期号 | 3页码:32-34+5 |
| 关键词 | X射线光刻 分辨率 同步辐射 氮化硅薄膜 |
| 其他题名 | Synchrotron Radiation X-Ray Lithography Technique for 0. 5μm resolution |
| 中文摘要 | 报道了用 Ｘ 射线母掩模复制子掩模的工艺和用北京同步辐射装置（ Ｂ Ｓ Ｒ Ｆ）３ Ｂ Ｉ Ａ 光刻束线获得的 ０５μｍ 光刻分辨率的实验结果。 |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221728]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 谢常青,叶甜春,孙宝银,等. 0.5μm分辨率同步辐射X射线光刻技术[J]. 微细加工技术,1999(3):32-34+5. |
| APA | 谢常青,叶甜春,孙宝银,&伊福廷.(1999).0.5μm分辨率同步辐射X射线光刻技术.微细加工技术(3),32-34+5. |
| MLA | 谢常青,et al."0.5μm分辨率同步辐射X射线光刻技术".微细加工技术 .3(1999):32-34+5. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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