PMMA在LIGA技术中的应用
文献类型：期刊论文
| 作者 | 陈永明; 伊福廷 ; 陈传福; 彭良强; 习复
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| 刊名 | 微细加工技术
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| 出版日期 | 2001 |
| 期号 | 4页码:36-38+43 |
| 关键词 | LIGA技术 抗蚀剂 聚甲基丙烯酸甲酯 深度光刻 |
| 其他题名 | Application of PMMA Resist in LIGA Technique |
| 中文摘要 | 合成了用于LIGA微细加工技术的聚甲基丙烯酸甲酯抗蚀剂 ,采用同步辐射装置X射线深度曝光 ,可得到深宽比 4 5～ 90 ,深度大于 4 50微米 ,细线宽 5～ 1 0微米的良好光刻图形 |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221858]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈永明,伊福廷,陈传福,等. PMMA在LIGA技术中的应用[J]. 微细加工技术,2001(4):36-38+43. |
| APA | 陈永明,伊福廷,陈传福,彭良强,&习复.(2001).PMMA在LIGA技术中的应用.微细加工技术(4),36-38+43. |
| MLA | 陈永明,et al."PMMA在LIGA技术中的应用".微细加工技术 .4(2001):36-38+43. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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