质子LIGA工艺的探讨
文献类型：期刊论文
| 作者 | 彭良强; 徐韬光 ; 韩勇; 伊福廷; 张菊芳
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| 刊名 | 微纳电子技术
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| 出版日期 | 2002 |
| 期号 | 5页码:34-36 |
| 关键词 | 微细加工 质子束 准LIGA |
| 其他题名 | RESEARCH ON PROTON LIGA TECHNOLOGY |
| 通讯作者 | 彭良强 |
| 中文摘要 | 提出采用掩模法的质子LIGA方法,即利用厚胶光刻产生掩模,然后进行质子束深度刻蚀、显影获得微结构。根据TRIM96程序进行模拟计算,该方法可以获得深度达数毫米、深宽比为30以上的微结构。利用通常的LIGA工艺制备了质子束深度刻蚀的掩模。在高能所35MeV质子加速器上进行曝光试验,结果表明,采用PMMA光刻胶具有足够的灵敏度。 |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/221957]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 高能物理研究所_加速器中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 彭良强,徐韬光,韩勇,等. 质子LIGA工艺的探讨[J]. 微纳电子技术,2002(5):34-36. |
| APA | 彭良强,徐韬光,韩勇,伊福廷,&张菊芳.(2002).质子LIGA工艺的探讨.微纳电子技术(5),34-36. |
| MLA | 彭良强,et al."质子LIGA工艺的探讨".微纳电子技术 .5(2002):34-36. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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