软X射线Mo/Si多层膜反射率拟合分析
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王洪昌; 王占山; 秦树基; 李佛生; 陈玲燕; 朱杰; 崔明启
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| 刊名 | 光学学报
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| 出版日期 | 2003 |
| 期号 | 11页码:1362-1365 |
| 关键词 | 薄膜光学 软X射线 多层膜 界面缺陷 参量估算 拟合 |
| 其他题名 | Analysis of the Ref lectivity of Mo/Si Multilayer Film for Soft X-Ray |
| 中文摘要 | 由于多层膜的表界面粗糙度和材料之间的相互扩散等因素 ,导致多层膜的实际反射率小于理论计算的反射率 ,因此 ,多层膜结构参量的确定对镀膜工艺参量的标定具有重要意义。由于描述单个非理想粗糙界面散射的Stearns法适用于软X射线短波段区域 ,采用它的数学模型来描述软X射线多层膜的粗糙度 ,利用最小二乘法曲线拟合法对同步辐射测得的Mo/Si多层膜的反射率曲线进行拟合 ,得到了非常好的拟合结果 ,从而确定了多层膜结构参量 ,同时分析了多层膜周期厚度 ,厚度比率 ,界面宽度以及仪器光谱分辨率对多层膜反射特性的影响 ,这些工作都为镀膜工艺改进提供了一定的理论依据。 |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222031]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王洪昌,王占山,秦树基,等. 软X射线Mo/Si多层膜反射率拟合分析[J]. 光学学报,2003(11):1362-1365. |
| APA | 王洪昌.,王占山.,秦树基.,李佛生.,陈玲燕.,...&崔明启.(2003).软X射线Mo/Si多层膜反射率拟合分析.光学学报(11),1362-1365. |
| MLA | 王洪昌,et al."软X射线Mo/Si多层膜反射率拟合分析".光学学报 .11(2003):1362-1365. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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