Mo/Si/C多层膜退火后的同步辐射研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 朱杰; 崔明启 ; 郑雷; 赵屹东; 王占山
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| 刊名 | 核技术
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| 出版日期 | 2004 |
| 期号 | 7页码:489-493 |
| 关键词 | 周期多层膜 退火 小角衍射 同步辐射 软X光 偏振 |
| 其他题名 | A STUDY OF ANNEALED Mo/Si/C MULTILAYER FILM BY SYNCHROTRON RADIATION |
| 通讯作者 | 朱杰 |
| 中文摘要 | 通过对Mo/Si周期多层膜添加碳(C)层、进行高温退火处理,研究了Mo/Si/C多层膜进行热处理后在同步辐照条件下对薄膜相关物理特性的影响。发现Mo/Si周期性多层膜增加C层后不影响薄膜的反射特性,退火前45°入射角92 eV处反射率高达42％;热稳定性也有所提高,在600℃高温退火后仍能保持6.8％(97 eV处)的反射率。同时,由于非晶C在高温条件下的扩散导致薄膜结构发生变化,观测到薄膜的小角衍射曲线中出现并临的双衍射峰结构。 |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222139]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 朱杰,崔明启,郑雷,等. Mo/Si/C多层膜退火后的同步辐射研究[J]. 核技术,2004(7):489-493. |
| APA | 朱杰,崔明启,郑雷,赵屹东,&王占山.(2004).Mo/Si/C多层膜退火后的同步辐射研究.核技术(7),489-493. |
| MLA | 朱杰,et al."Mo/Si/C多层膜退火后的同步辐射研究".核技术 .7(2004):489-493. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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