纳米岛光刻技术及其应用
文献类型：期刊论文
| 作者 | 伊福廷 ; Mino Green
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| 刊名 | 微细加工技术
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| 出版日期 | 2004 |
| 期号 | 4页码:22-26 |
| 关键词 | 光刻 纳米岛 纳米技术 微加工 |
| 其他题名 | Nano Islands Lithography and Its Applications |
| 通讯作者 | 伊福廷 |
| 中文摘要 | 介绍了一种基于微加工技术的新方法———纳米岛光刻技术。利用该技术制造出几十纳米到微米尺度的岛结构,然后利用剥离、刻蚀等微加工技术,将该岛转化成纳米孔、纳米岛、纳米井等结构。该技术的特点是能够制造出具有各种密度的纳米结构(最高覆盖率可达50%以上),且开发成本低,工艺性能优越,是一种有效制造纳米岛结构的专业方法。 |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222194]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 伊福廷,Mino Green. 纳米岛光刻技术及其应用[J]. 微细加工技术,2004(4):22-26. |
| APA | 伊福廷,&Mino Green.(2004).纳米岛光刻技术及其应用.微细加工技术(4),22-26. |
| MLA | 伊福廷,et al."纳米岛光刻技术及其应用".微细加工技术 .4(2004):22-26. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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