深亚微米X射线光刻模拟软件XLSS1.0
文献类型：期刊论文
| 作者 | 谢常青; 王德强; 陈大鹏; 叶甜春; 伊福廷 ; 韩勇; 张菊芳
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| 刊名 | 微细加工技术
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| 出版日期 | 2004 |
| 期号 | 4页码:27-30+35 |
| 关键词 | X射线光刻 同步辐射 束衍生法 面向对象编程 |
| 其他题名 | Deep-submicron X-ray Lithography Simulation Software XLSS 1.0 |
| 中文摘要 | 介绍了一套自行研制的深亚微米同步辐射X射线光刻模拟软件———XLSS1 0。该软件基于面向对象技术,采用束衍生法及快速傅里叶变换相结合的方法来研究X射线掩模中吸收体的光导波效应,对光刻胶表面空间光强分布及光刻胶剖面进行了精确模拟计算,发现模拟结果与实验结果吻合很好,且模拟结果的特征尺寸宽度与实验结果的特征尺寸宽度误差小于±10%。 |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222195]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 谢常青,王德强,陈大鹏,等. 深亚微米X射线光刻模拟软件XLSS1.0[J]. 微细加工技术,2004(4):27-30+35. |
| APA | 谢常青.,王德强.,陈大鹏.,叶甜春.,伊福廷.,...&张菊芳.(2004).深亚微米X射线光刻模拟软件XLSS1.0.微细加工技术(4),27-30+35. |
| MLA | 谢常青,et al."深亚微米X射线光刻模拟软件XLSS1.0".微细加工技术 .4(2004):27-30+35. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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