同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚
文献类型：期刊论文
| 作者 | 巩岩; 陈波; 尼启良; 崔明启 ; 赵屹东; 吴忠华
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| 刊名 | 高能物理与核物理
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| 出版日期 | 2005 |
| 期号 | 11页码:1104-1106 |
| 关键词 | 同步辐射光源 掠出射 X射线荧光 薄膜 |
| 其他题名 | Thickness Analysis for Thin-Film by Glazing Exit X-ray Fluorescence with Synchrotron Radiation Source |
| 中文摘要 | 掠射X射线荧光分析为薄层和多层膜特性分析提供了潜在的可能。尤其是可以探测膜层厚度、界面形貌和组成。以北京同步辐射光源作激发光源,采用掠出射方法测试了Si基片上不同厚度的单层Cr膜样品,测试结果与理论计算基本符合。同时观察到一定厚度的薄膜样品产生的掠出射X射线荧光的干涉现象。 |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222265]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 巩岩,陈波,尼启良,等. 同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚[J]. 高能物理与核物理,2005(11):1104-1106. |
| APA | 巩岩,陈波,尼启良,崔明启,赵屹东,&吴忠华.(2005).同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚.高能物理与核物理(11),1104-1106. |
| MLA | 巩岩,et al."同步辐射掠出射X射线荧光分析薄膜膜厚".高能物理与核物理 .11(2005):1104-1106. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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