电气石裂变径迹蚀刻条件研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 高绍凯; 袁万明 ; 董金泉; 王世成
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| 刊名 | 核技术
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| 出版日期 | 2005 |
| 期号 | 9页码:681-683 |
| 关键词 | 电气石 裂变径迹 蚀刻条件 |
| 其他题名 | Fission track etching condition of tourmaline |
| 通讯作者 | 高绍凯 |
| 中文摘要 | 通过对3个不同样品中的电气石颗粒进行蚀刻,详细探讨了电气石裂变径迹的最佳蚀刻条件。实验结果表明,当用40%的HF在35℃下蚀刻30min或用KOH在40℃蚀刻20min时,在显微镜下都可在平行于矿物c轴的晶面方向上观察到裂变径迹。 |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222284]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 高绍凯,袁万明,董金泉,等. 电气石裂变径迹蚀刻条件研究[J]. 核技术,2005(9):681-683. |
| APA | 高绍凯,袁万明,董金泉,&王世成.(2005).电气石裂变径迹蚀刻条件研究.核技术(9),681-683. |
| MLA | 高绍凯,et al."电气石裂变径迹蚀刻条件研究".核技术 .9(2005):681-683. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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