利用x射线小角散射技术研究微晶硅薄膜的微结构
文献类型：期刊论文
| 作者 | 周炳卿; 刘丰珍; 朱美芳; 谷锦华; 周玉琴; 刘金龙; 董宝中; 李国华; 丁琨 |
| 刊名 | 物理学报
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| 出版日期 | 2005 |
| 期号 | 5页码:2172-2175 |
| 关键词 | 微晶硅薄膜 微结构 微空洞 x射线小角散射 |
| 其他题名 | The microstructure of hydrogenated microcrystalline silicon thin films studied by small-angle x-ray scattering |
| 中文摘要 | 采用x射线小角散射 (SAXS)技术研究了由射频等离子体增强化学气相沉积 (rf PECVD)、热丝化学气相沉积(HWCVD)和等离子体助热丝化学气相沉积 (PE HWCVD)技术制备的微晶硅 (μc Si:H)薄膜的微结构 .实验发现 ,在相同晶态比的情况下 ,PECVD沉积的 μc Si:H薄膜微空洞体积比小 ,结构较致密 ,HWCVD沉积的 μ Si:H薄膜微空洞体积比大 ,结构较为疏松 ,PE HWCVD沉积的 μc Si:H薄膜 ,由于等离子体的敲打作用 ,与HWCVD样品相比 ,微结构得到明显改善 .采用HWCVD二步法和PE HWCVD加适量Ar离子分别沉积 μc Si:H薄膜 ... |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222330]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 周炳卿,刘丰珍,朱美芳,等. 利用x射线小角散射技术研究微晶硅薄膜的微结构[J]. 物理学报,2005(5):2172-2175. |
| APA | 周炳卿.,刘丰珍.,朱美芳.,谷锦华.,周玉琴.,...&丁琨.(2005).利用x射线小角散射技术研究微晶硅薄膜的微结构.物理学报(5),2172-2175. |
| MLA | 周炳卿,et al."利用x射线小角散射技术研究微晶硅薄膜的微结构".物理学报 .5(2005):2172-2175. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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