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合成金刚石晶体缺陷的同步辐射形貌研究

文献类型:期刊论文

作者张明; 于万里; 贾晓鹏; 马红安; 黄万霞; 袁清习
刊名材料工程
出版日期2009
期号4页码:49-51+56
关键词合成金刚石 同步辐射 位错 形貌像 生长带
其他题名Synchrotron Radiation Topographic Study of Crystal Defects in Synthetic Diamond
中文摘要采用同步辐射白光貌相术研究合成金刚石单晶体中的晶体缺陷,观察到晶体中存在籽晶,籽晶周围存在着大量的位错线。位错线起源于籽晶表面,终止于晶体表面。计算了位错束的空间走向和位错密度。分析了晶体的生长阶段和影响晶体缺陷的主要因素,指出通过减少籽晶表面的缺陷,保持生长条件的稳定,能够有效地降低合成金刚石晶体中缺陷的密度,提高合成金刚石晶体的完整性。
公开日期2016-02-25
源URL[http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222674]  
专题高能物理研究所_多学科研究中心
推荐引用方式
GB/T 7714
张明,于万里,贾晓鹏,等. 合成金刚石晶体缺陷的同步辐射形貌研究[J]. 材料工程,2009(4):49-51+56.
APA 张明,于万里,贾晓鹏,马红安,黄万霞,&袁清习.(2009).合成金刚石晶体缺陷的同步辐射形貌研究.材料工程(4),49-51+56.
MLA 张明,et al."合成金刚石晶体缺陷的同步辐射形貌研究".材料工程 .4(2009):49-51+56.

入库方式: OAI收割

来源:高能物理研究所

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