Co掺杂ZnO薄膜的局域结构和电荷转移特性研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 刘学超; 陈之战; 施尔畏; 严成锋; 黄维; 宋力昕; 周克瑾; 崔明启 ; 贺博; 韦世强
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| 刊名 | 物理学报
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| 出版日期 | 2009 |
| 期号 | 1页码:498-504 |
| 关键词 | Co掺杂ZnO 稀磁半导体 X射线吸收精细结构 共振非弹性X射线散射 |
| 其他题名 | The local structure and charge transfer properties of Co-doped ZnO thin films |
| 中文摘要 | 采用磁束缚电感耦合等离子体溅射沉积法在不同的氧气分压下制备了Zn0.95Co0.05O和Zn0.94Co0.05Al0.01O薄膜.利用X射线吸收精细结构技术对薄膜O-K,Co-K和Co-L边进行了局域结构研究,结果表明:Co2+取代了四配位晶体场中的Zn2+而未改变ZnO的六方纤锌矿结构,高真空条件下制备的薄膜具有较多的氧空位缺陷.利用共振非弹性X射线散射研究了薄膜Co-L和O-K边电荷转移情况,结果表明:Zn0.94Co0.05Al0.01O薄膜中Co-3d与传导电子之间的电荷转移强度明显强于Zn0.95Co0.05O薄膜,在较低氧气分压下制备的Zn0.95Co0.05O薄膜的电荷转移强度... |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222735]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘学超,陈之战,施尔畏,等. Co掺杂ZnO薄膜的局域结构和电荷转移特性研究[J]. 物理学报,2009(1):498-504. |
| APA | 刘学超.,陈之战.,施尔畏.,严成锋.,黄维.,...&韦世强.(2009).Co掺杂ZnO薄膜的局域结构和电荷转移特性研究.物理学报(1),498-504. |
| MLA | 刘学超,et al."Co掺杂ZnO薄膜的局域结构和电荷转移特性研究".物理学报 .1(2009):498-504. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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