退火温度及退火气氛对ZnO薄膜的结构及发光性能的影响(英文)
文献类型：期刊论文
| 作者 | 张侠; 刘渝珍; 康朝阳; 徐彭寿; 王家鸥; 奎热西
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| 刊名 | 发光学报
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| 出版日期 | 2010 |
| 期号 | 5页码:613-618 |
| 关键词 | ZnO薄膜 快速退火 光致发光 X射线光电子能谱 氧空位 |
| 其他题名 | Effects of Annealing Atmosphere and Temperature on the Structure and Photoluminescence of ZnO Films Prepared by Pulsed LaserDeposition |
| 中文摘要 | 采用脉冲激光沉积技术在Si/蓝宝石衬底上制备了ZnO薄膜,结合快速退火设备研究了不同退火温度(500~900℃)及退火气氛(N2,O2)对薄膜的结构及其发光性能的影响。并优化条件得到具有最小半峰全宽及最大晶粒尺寸的薄膜。X射线衍射(XRD)结果表明:氮气氛下退火的ZnO薄膜最佳退火温度为900℃;氧气氛下退火的ZnO薄膜最佳退火温度为800℃。红外(IR)光谱中,退火后Zn-O特征振动峰红移,说明在退火过程中,原子重新排布后占据较低能量位置;同样的退火温度下,氮气氛下退火的薄膜质量更优。同步辐射光电子能谱(synchrotron-based XPS)分别表征了未退火及N2,O2下900℃退火的... |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222786]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 张侠,刘渝珍,康朝阳,等. 退火温度及退火气氛对ZnO薄膜的结构及发光性能的影响(英文)[J]. 发光学报,2010(5):613-618. |
| APA | 张侠,刘渝珍,康朝阳,徐彭寿,王家鸥,&奎热西.(2010).退火温度及退火气氛对ZnO薄膜的结构及发光性能的影响(英文).发光学报(5),613-618. |
| MLA | 张侠,et al."退火温度及退火气氛对ZnO薄膜的结构及发光性能的影响(英文)".发光学报 .5(2010):613-618. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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