D~+离子束辐照对Ti膜的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 王博宇; 向伟; 谈效华; 戴晶怡; 程亮; 秦秀波
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| 刊名 | 金属学报
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| 出版日期 | 2010 |
| 期号 | 7页码:810-813 |
| 关键词 | D~+ Ti膜 慢正电子湮没技术 |
| 其他题名 | EFFECT OF D~+ BEAM IRRADIATION ON Ti FILM |
| 中文摘要 | 在加速器上,利用不同能量的D~+离子束对Ti膜进行连续辐照,利用慢正电子湮没技术和SEM对束流辐照前后Ti膜进行表征.结果表明,D~+离子束对Ti膜造成辐照损伤,随D~+离子束能量增大,辐照损伤的程度加重;辐照损伤最大值在0.3μm处;D~+离子束对Ti膜表面造成不同程度的烧蚀,随D~+离子束能量增加,膜表面烧蚀程度增加,膜表面几何不均匀性导致膜表面出现选择性烧蚀.数值计算表明,随能量增加,D~+离子在Ti膜中的能量沉积增大,这与SEM观测结果相符. |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222808]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王博宇,向伟,谈效华,等. D~+离子束辐照对Ti膜的影响[J]. 金属学报,2010(7):810-813. |
| APA | 王博宇,向伟,谈效华,戴晶怡,程亮,&秦秀波.(2010).D~+离子束辐照对Ti膜的影响.金属学报(7),810-813. |
| MLA | 王博宇,et al."D~+离子束辐照对Ti膜的影响".金属学报 .7(2010):810-813. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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