聚甲基硅氧烷纳米多孔薄膜的微孔结构分析
文献类型：期刊论文
| 作者 | 高芳亮; 李生英; 陈宏基; 吴忠华 ; 李志宏
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| 刊名 | 材料研究学报
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| 出版日期 | 2012 |
| 期号 | 1页码:68-72 |
| 关键词 | 有机高分子材料 聚甲基硅氧烷 掠入射小角X射线散射 纳米多孔薄膜 孔结构 |
| 其他题名 | Pore Structural Analysis on Poly（Methyl）silsesquioxane Porous Thin Films by Synchrotron Radiation Small Angle X-ray Scattering |
| 中文摘要 | 用旋涂工艺和致孔法制备了一组聚甲基硅氧烷纳米多孔薄膜,用红外吸收光谱(FT-IR)、热重分析(TGA)对其进行表征,用同步辐射光源进行小角X射线散射测试,在掠入射模式(GISAXS)下进行微孔结构分析。结果表明,聚甲基硅氧烷前驱体与致孔剂具有良好的相容性;薄膜的小角散射曲线均不遵守Porod定理、形成正偏离;所有纳米多孔薄膜具备孔分形特征;薄膜基体与孔结构之间存在微电子密度起伏,且薄膜孔径小于3 nm。 |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/222953]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 高芳亮,李生英,陈宏基,等. 聚甲基硅氧烷纳米多孔薄膜的微孔结构分析[J]. 材料研究学报,2012(1):68-72. |
| APA | 高芳亮,李生英,陈宏基,吴忠华,&李志宏.(2012).聚甲基硅氧烷纳米多孔薄膜的微孔结构分析.材料研究学报(1),68-72. |
| MLA | 高芳亮,et al."聚甲基硅氧烷纳米多孔薄膜的微孔结构分析".材料研究学报 .1(2012):68-72. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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