同步辐射光刻技术进展
文献类型：期刊论文
| 作者 | 陈大鹏; 彭良强 |
| 刊名 | 核技术
 |
| 出版日期 | 2002 |
| 期号 | 10页码:817-821 |
| 关键词 | 同步辐射 光刻技术 研究进展 X射线光刻 掩模 集成电路 制造 |
| 其他题名 | Investigation on synchrotron radiation lithography technology |
| 中文摘要 | 光刻技术是推动集成电路制造业不断向前发展的关键技术。X射线光刻技术是下一代光刻技术的一种，具有产业化的应用前景。掩模技术是X射线光刻技术的难点，本文报告了国内利用同步辐射源的X射线掩模和光刻技术研究的最新进展。 |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/223082]  |
| 专题 | 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈大鹏,彭良强. 同步辐射光刻技术进展[J]. 核技术,2002(10):817-821. |
| APA | 陈大鹏,&彭良强.(2002).同步辐射光刻技术进展.核技术(10),817-821. |
| MLA | 陈大鹏,et al."同步辐射光刻技术进展".核技术 .10(2002):817-821. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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