BEPCII正电子源(英文)
文献类型：期刊论文
| 作者 | 裴国玺 ; 孙耀霖; 刘晋通; 池云龙; 刘玉成; 刘念宗
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| 刊名 | 高能物理与核物理
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| 出版日期 | 2006 |
| 期号 | 1页码:66-70 |
| 关键词 | 正电子源 磁通压缩器 转换靶 脉冲电源 |
| 其他题名 | BEPCII Positron Source |
| 通讯作者 | 裴国玺 |
| 中文摘要 | BEPCⅡ是一粒子工厂型的正负电子对撞机,为北京正负电子对撞机(BEPC)的改造、升级工程．它对直 线注入器的基本要求是40mA,1．89GeV的正电子柬流,发射度1．6μm,能散度好于±0．5％,保证储存环的注入速 率≥50mA/min,实现TOP OFF注入方式．因为正电子流强与打靶电子束流功率成正比,采用一把新的10A电 子枪来提高打靶电流,采用新加速结构和65MW速调管SLAC5045把目前140MeV的打靶能量提高到240MeV． 正电子源本身也是一非常关键、极其复杂的系统,它包括正电子转换靶室、12kA磁号”脉冲电源、7m长聚焦 节、大功率直流电源和支架等．目前,正电子产生加速器... |
| 公开日期 | 2016-02-25 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/217096]  |
| 专题 | 高能物理研究所_加速器中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 裴国玺,孙耀霖,刘晋通,等. BEPCII正电子源(英文)[J]. 高能物理与核物理,2006(1):66-70. |
| APA | 裴国玺,孙耀霖,刘晋通,池云龙,刘玉成,&刘念宗.(2006).BEPCII正电子源(英文).高能物理与核物理(1),66-70. |
| MLA | 裴国玺,et al."BEPCII正电子源(英文)".高能物理与核物理 .1(2006):66-70. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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