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两个子带占据的In_(0.53)Ga_(0.47)As/In_(0.52)Al_(0.48)As量子阱中填充因子的变化规律

文献类型:期刊论文

作者商丽燕 ; 林铁 ; 周文政 ; 郭少令 ; 李东临 ; 高宏玲 ; 崔利杰 ; 曾一平 ; 褚君浩
刊名物理学报
出版日期2008
卷号57期号:6页码:3818-3822
中文摘要研究了低温(1.5K)和强磁场(0-13T)条件下,InP基In_(0.53)Ga_(0.47)As/In_(0.52)A_(l0.48)As量子阱中电子占据两个子带时填充因子随磁场的变化规律.结果表明,在电子自旋分裂能远小于朗道能级展宽的情况下,如果两个子带分裂能是朗道分裂能的整数倍时,即⊿E_(21)=κ*ω_c(其中κ为整数),填充因子为偶数;当两个子带分裂能为朗道分裂能的半奇数倍时,即⊿E_(21)=(2κ+1*ω/2,填充因子出现奇数.
英文摘要研究了低温(1.5K)和强磁场(0-13T)条件下,InP基In_(0.53)Ga_(0.47)As/In_(0.52)A_(l0.48)As量子阱中电子占据两个子带时填充因子随磁场的变化规律.结果表明,在电子自旋分裂能远小于朗道能级展宽的情况下,如果两个子带分裂能是朗道分裂能的整数倍时,即⊿E_(21)=κ*ω_c(其中κ为整数),填充因子为偶数;当两个子带分裂能为朗道分裂能的半奇数倍时,即⊿E_(21)=(2κ+1*ω/2,填充因子出现奇数.; 于2010-11-23批量导入; zhangdi于2010-11-23 13:00:54导入数据到SEMI-IR的IR; Made available in DSpace on 2010-11-23T05:00:54Z (GMT). No. of bitstreams: 1 3898.pdf: 358247 bytes, checksum: 3f71ac4e941b661aa3dd9bf72fc7351d (MD5) Previous issue date: 2008; 国家自然科学基金(批准号:6 2215 2)资助的课题; 中国科学院上海技术物理研究所;中国科学院半导体研究所
学科主题半导体材料
收录类别CSCD
资助信息国家自然科学基金(批准号:6 2215 2)资助的课题
语种中文
公开日期2010-11-23 ; 2011-04-28
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16079]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
商丽燕,林铁,周文政,等. 两个子带占据的In_(0.53)Ga_(0.47)As/In_(0.52)Al_(0.48)As量子阱中填充因子的变化规律[J]. 物理学报,2008,57(6):3818-3822.
APA 商丽燕.,林铁.,周文政.,郭少令.,李东临.,...&褚君浩.(2008).两个子带占据的In_(0.53)Ga_(0.47)As/In_(0.52)Al_(0.48)As量子阱中填充因子的变化规律.物理学报,57(6),3818-3822.
MLA 商丽燕,et al."两个子带占据的In_(0.53)Ga_(0.47)As/In_(0.52)Al_(0.48)As量子阱中填充因子的变化规律".物理学报 57.6(2008):3818-3822.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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