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一种新型2*2 SOI热光开关

文献类型:期刊论文

作者陈少武
刊名光电子·激光
出版日期2007
卷号18期号:11页码:1280-1282
中文摘要设计并制作了一种新型的SOI 2×2马赫-曾德(MZ)热光开关.这种光开关采用了深刻蚀结构的配对多模干涉耦合器,同时,为了保证单模传输和调制,在连接波导和调制臂区域采用了浅刻蚀结构.深刻蚀结构增强了多模干涉耦合器对光场的限制,有利于自映像质量的提高,从而减少了自映像损耗和不均衡度,同时也提高了制作容差.基于强限制配对干涉耦合器的新型热光开关,其插入损耗为-11.0 dB,其中包括光纤-波导耦合损耗-4.3 dB,上升和下降开关时间分别为3.5μs和8.8μs.
学科主题光电子学
资助信息国家科技部"973"计划资助项目(G2 - 3-66),中央民族大学青年教师科研基金资助项目(CUN 7A)
收录类别CSCD
语种中文
公开日期2010-11-23
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16175]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
陈少武. 一种新型2*2 SOI热光开关[J]. 光电子·激光,2007,18(11):1280-1282.
APA 陈少武.(2007).一种新型2*2 SOI热光开关.光电子·激光,18(11),1280-1282.
MLA 陈少武."一种新型2*2 SOI热光开关".光电子·激光 18.11(2007):1280-1282.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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