采用单步光刻和湿法腐蚀工艺制作高性能衍射微透镜
文献类型:期刊论文
作者 | 季安![]() |
刊名 | 半导体学报
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出版日期 | 2007 |
卷号 | 28期号:10页码:1625-1629 |
中文摘要 | 采用单步光刻和湿法腐蚀工艺,低成本快速制作面向高性能蓝光和红光DVD光学头物镜的衍射微透镜.所制微光学结构的表面粗糙度在纳米量级,衍射相位台阶的高度在亚微米量级并可以根据需求灵活调整,通光孔径在毫米至厘米量级的范围内可调.组成衍射微透镜的大量基本相位结构,可以根据入射和出射光束的形貌特征及参数指标,通过衍射积分算法灵活设置和排布.远场光学测试显示了所制衍射微透镜的高衍射效能. |
英文摘要 | 采用单步光刻和湿法腐蚀工艺,低成本快速制作面向高性能蓝光和红光DVD光学头物镜的衍射微透镜.所制微光学结构的表面粗糙度在纳米量级,衍射相位台阶的高度在亚微米量级并可以根据需求灵活调整,通光孔径在毫米至厘米量级的范围内可调.组成衍射微透镜的大量基本相位结构,可以根据入射和出射光束的形貌特征及参数指标,通过衍射积分算法灵活设置和排布.远场光学测试显示了所制衍射微透镜的高衍射效能.; 于2010-11-23批量导入; zhangdi于2010-11-23 13:01:26导入数据到SEMI-IR的IR; Made available in DSpace on 2010-11-23T05:01:26Z (GMT). No. of bitstreams: 1 3994.pdf: 1115483 bytes, checksum: 6ed497922cdc8297fbf73a16ae5f5003 (MD5) Previous issue date: 2007; 湖北省自然科学基金,控制与仿真技术国防科技重点实验室基金,航天创新技术基金资助项目; 华中科技大学;中国科学院半导体研究所;武汉光电国家实验室 |
学科主题 | 微电子学 |
收录类别 | CSCD |
资助信息 | 湖北省自然科学基金,控制与仿真技术国防科技重点实验室基金,航天创新技术基金资助项目 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2010-11-23 ; 2011-04-28 |
源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16203] ![]() |
专题 | 半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 季安. 采用单步光刻和湿法腐蚀工艺制作高性能衍射微透镜[J]. 半导体学报,2007,28(10):1625-1629. |
APA | 季安.(2007).采用单步光刻和湿法腐蚀工艺制作高性能衍射微透镜.半导体学报,28(10),1625-1629. |
MLA | 季安."采用单步光刻和湿法腐蚀工艺制作高性能衍射微透镜".半导体学报 28.10(2007):1625-1629. |
入库方式: OAI收割
来源:半导体研究所
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