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微量掺碳ne-SiC:H薄膜用于p-i-n太阳电池的窗口层

文献类型:期刊论文

作者许颖 ; 刁宏伟 ; 张世斌 ; 励旭东 ; 曾湘波 ; 王文静 ; 廖显伯
刊名物理学报
出版日期2007
卷号56期号:5页码:2915-2919
中文摘要采用等离子增强化学气相沉积方法(PEVVD)制备了微量掺碳的p型纳米非晶硅碳薄膜(p-nc-SiC:H),反应气体为硅烷和甲烷,掺杂气体采用硼烷,沉积温度分别采用333 K,353 K和373 K.测量结果表明随着沉积温度增加和碳含量的增加,薄膜的光学带隙增加;薄膜具有较宽的带隙和较高的电导率,同时有较低的激活能(0.06 eV).Raman和XRD测量结果表明薄膜存在纳米晶.优化的p型纳米非晶硅碳薄膜作为非晶硅p-i-n太阳电池的窗口层,使得太阳电池的开路电压达到0.94 V.
学科主题半导体材料
收录类别CSCD
资助信息北京市自然科学基金
语种中文
公开日期2010-11-23
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16331]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
许颖,刁宏伟,张世斌,等. 微量掺碳ne-SiC:H薄膜用于p-i-n太阳电池的窗口层[J]. 物理学报,2007,56(5):2915-2919.
APA 许颖.,刁宏伟.,张世斌.,励旭东.,曾湘波.,...&廖显伯.(2007).微量掺碳ne-SiC:H薄膜用于p-i-n太阳电池的窗口层.物理学报,56(5),2915-2919.
MLA 许颖,et al."微量掺碳ne-SiC:H薄膜用于p-i-n太阳电池的窗口层".物理学报 56.5(2007):2915-2919.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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