深刻蚀光栅的最新进展
文献类型：期刊论文
| 作者 | 无 |
| 刊名 | 中国科学基金
 |
| 出版日期 | 2007 |
| 卷号 | 21期号:6页码:354 |
| 关键词 | 亚波长光栅 深刻蚀 表面浮雕结构 激光核聚变装置 偏振控制 刻蚀深度 衍射效率 光学器件 |
| ISSN号 | 1000-8217 |
| 中文摘要 | 深刻蚀光栅是指亚波长光栅的表面浮雕结构达到一定的优化刻蚀深度，实现特定偏振衍射效率最大值或者偏振控制。光栅是重要的光学器件，在光谱仪、激光核聚变装置中广泛使用。以往的光栅大多是浅表面调制的，也就是表面浮雕的深度不是很深。虽然光栅的理论和制造工艺取得了巨大的进展，但以前并没有预言过，石英光栅通过深刻蚀工艺可以实现偏振分光功能。 |
| 学科主题 | 光栅 |
| 分类号 | TN405.98 |
| 收录类别 | 0 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2009-09-18 |
| 源URL | [http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/1450]  |
| 专题 | 上海光学精密机械研究所_信息光学开放实验室 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 无. 深刻蚀光栅的最新进展[J]. 中国科学基金,2007,21(6):354. |
| APA | 无.(2007).深刻蚀光栅的最新进展.中国科学基金,21(6),354. |
| MLA | 无."深刻蚀光栅的最新进展".中国科学基金 21.6(2007):354. |
入库方式： OAI收割
来源：上海光学精密机械研究所
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