同步辐射X射线深度光刻实验
文献类型：期刊论文
| 作者 | 伊福廷 ; 习复; 唐鄂生; 郑宏卫; 晋明; 冼鼎昌
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| 刊名 | 微细加工技术
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| 出版日期 | 1997 |
| 期号 | 2页码:31-33 |
| 关键词 | LIGA技术 同步辐射 X射线光刻 |
| 其他题名 | THCENIQUE OF DEEP X-RAY LITHOGRAPHY WITH SYNHROTRON RADIATION |
| 通讯作者 | 伊福廷 |
| 中文摘要 | 深度同步辐射光刻是LIGA技术的关键工艺环节。利用同步辐射X射线的高平行性、硬射线的高强度，可以光刻出非常深的胶结构，并且这一结构有着很好的尺寸精度和垂直精度，对加工出微型机械结构，具有重要作用。 |
| 公开日期 | 2016-02-26 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/215292]  |
| 专题 | 高能物理研究所_院士 高能物理研究所_多学科研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 伊福廷,习复,唐鄂生,等. 同步辐射X射线深度光刻实验[J]. 微细加工技术,1997(2):31-33. |
| APA | 伊福廷,习复,唐鄂生,郑宏卫,晋明,&冼鼎昌.(1997).同步辐射X射线深度光刻实验.微细加工技术(2),31-33. |
| MLA | 伊福廷,et al."同步辐射X射线深度光刻实验".微细加工技术 .2(1997):31-33. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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