核孔膜的非常规蚀刻法
文献类型：期刊论文
| 作者 | 彭良强; 巨新; 王世成; 冼鼎昌 ; 李涛; 张宝亭
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| 刊名 | 核技术
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| 出版日期 | 2001 |
| 期号 | 1页码:63-68 |
| 关键词 | 核孔膜 蚀刻 |
| 其他题名 | Unconventional etch methods for nuclear track membranes |
| 通讯作者 | 彭良强 |
| 中文摘要 | 不对称蚀刻法的分析表明 ,在灵敏度不变时可以得到小孔径核孔膜。实验显示 ,由于孔径不均匀现象的制约 ,核孔膜的孔径可减小到 1/ 2。温度梯度蚀刻法的分析表明 ,导通时间的减小与膜两面的温度差成正比 ,在实际条件下孔径减小到 1/ 5。模拟计算表明 ,采用该方法可得到柱状孔核孔膜 ,但蚀刻过程很难控制。 |
| 公开日期 | 2016-02-26 |
| 源URL | [http://ir.ihep.ac.cn/handle/311005/215431]  |
| 专题 | 高能物理研究所_院士 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 彭良强,巨新,王世成,等. 核孔膜的非常规蚀刻法[J]. 核技术,2001(1):63-68. |
| APA | 彭良强,巨新,王世成,冼鼎昌,李涛,&张宝亭.(2001).核孔膜的非常规蚀刻法.核技术(1),63-68. |
| MLA | 彭良强,et al."核孔膜的非常规蚀刻法".核技术 .1(2001):63-68. |
入库方式： OAI收割
来源：高能物理研究所
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