带有A1N插入层的GaN薄膜的结构及应变研究
文献类型：期刊论文
| 作者 | 赵强
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| 刊名 | 原子能科学技术
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| 出版日期 | 2006 |
| 卷号 | 40期号:5页码:614-619 |
| 中文摘要 | 利用金属有机化学汽相沉积(MOCVD)法在硅衬底上生长具有AIN插入层的GaN外延膜，采用高分辨X射线衍射(HRXRD)和卢瑟福背散射/沟道(RBS/Channeling)技术研究分析其结构和应变性质。从RBS＜0001＞沟道谱可知，该外延膜具有良好的结晶品质，χ_(min)＝2.5％。利用不同方位角上XRD摇摆曲线测量，可得出GaN(0001)面与Si(111)面之间的夹角β＝1.379°。通过对GaN(0002)和GaN(10(1-bar)5)衍射面的θ-2θ扫描，可以得出GaN外延膜在垂直方向和水平方向的平均弹性应变分别为-0.10%±0.02％和0.69％±0.09％。通过对{10(1-bar)0}面内非对称<1(2-bar)13>轴RBS角扫描可得出由弹性应变引起的四方畸变e_T在近表面处为0.35％±0.02％。外延膜弹性性质表明GaN膜在水平方向具有张应力(e~〃＞0)、在垂直方向具有压应力(e~⊥＜0)，印证了XRD的结果。四方畸变是深度敏感的，通过对不同深度的四方畸变计算可知，A1N插入层下面的GaN外延膜弹性应变释放速度比A1N层上面的GaN层弹性应变释放快，说明A1N层的插入缓解了应变释放速度。 |
| 英文摘要 | 利用金属有机化学汽相沉积(MOCVD)法在硅衬底上生长具有AIN插入层的GaN外延膜，采用高分辨X射线衍射(HRXRD)和卢瑟福背散射/沟道(RBS/Channeling)技术研究分析其结构和应变性质。从RBS＜0001＞沟道谱可知，该外延膜具有良好的结晶品质，χ_(min)＝2.5％。利用不同方位角上XRD摇摆曲线测量，可得出GaN(0001)面与Si(111)面之间的夹角β＝1.379°。通过对GaN(0002)和GaN(10(1-bar)5)衍射面的θ-2θ扫描，可以得出GaN外延膜在垂直方向和水平方向的平均弹性应变分别为-0.10%±0.02％和0.69％±0.09％。通过对{10(1-bar)0}面内非对称<1(2-bar)13>轴RBS角扫描可得出由弹性应变引起的四方畸变e_T在近表面处为0.35％±0.02％。外延膜弹性性质表明GaN膜在水平方向具有张应力(e~〃＞0)、在垂直方向具有压应力(e~⊥＜0)，印证了XRD的结果。四方畸变是深度敏感的，通过对不同深度的四方畸变计算可知，A1N插入层下面的GaN外延膜弹性应变释放速度比A1N层上面的GaN层弹性应变释放快，说明A1N层的插入缓解了应变释放速度。; 于2010-11-23批量导入; zhangdi于2010-11-23 13:02:56导入数据到SEMI-IR的IR; Made available in DSpace on 2010-11-23T05:02:56Z (GMT). No. of bitstreams: 1 4255.pdf: 280428 bytes, checksum: 24c7c894e22540168850e9f77d3467fa (MD5) Previous issue date: 2006; 国家自然科学基金资助项目,中-比双边科技合作资助项目; 北京大学物理学院技术物理系;Institut Voor Kern-en Stralingsfysica，Katholieke Universiteit Leuven，B-3001 Leuven;中国科学院半导体研究所 |
| 学科主题 | 半导体材料 |
| 收录类别 | CSCD |
| 资助信息 | 国家自然科学基金资助项目,中-比双边科技合作资助项目 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-11-23 ; 2011-04-29 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16603]  |
| 专题 | 半导体研究所_中国科学院半导体研究所（2009年前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵强. 带有A1N插入层的GaN薄膜的结构及应变研究[J]. 原子能科学技术,2006,40(5):614-619. |
| APA | 赵强.(2006).带有A1N插入层的GaN薄膜的结构及应变研究.原子能科学技术,40(5),614-619. |
| MLA | 赵强."带有A1N插入层的GaN薄膜的结构及应变研究".原子能科学技术 40.5(2006):614-619. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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