透镜形量子点的盖层和高宽比对应变场分布的影响
文献类型：期刊论文
| 作者 | 刘玉敏 ; 俞重远 ; 杨红波 ; 黄永箴 |
| 刊名 | 高技术通讯
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| 出版日期 | 2005 |
| 卷号 | 15期号:10页码:57-61 |
| 中文摘要 | 对透镜形自组织生长量子点的应变分布进行了研究。主要分析了透镜形状的量子点形貌对应变分布的影响，针对开放量子点（无盖层）和非开放量子点（有盖层）情况分别进行了讨论。结果表明，无论有无盖层，横向大尺寸量子点内部的应变分布趋向于均匀，无盖层量子点与有盖层情况相比内部应变释放程度大，甚至在量子点顶部有应变过释放情况，这一现象可以定性解释量子点生长的高度受限、量子点后续生长中出现的量子点塌陷和盖层生长停顿后产生的量子点“挖空”现象。 |
| 英文摘要 | 对透镜形自组织生长量子点的应变分布进行了研究。主要分析了透镜形状的量子点形貌对应变分布的影响，针对开放量子点（无盖层）和非开放量子点（有盖层）情况分别进行了讨论。结果表明，无论有无盖层，横向大尺寸量子点内部的应变分布趋向于均匀，无盖层量子点与有盖层情况相比内部应变释放程度大，甚至在量子点顶部有应变过释放情况，这一现象可以定性解释量子点生长的高度受限、量子点后续生长中出现的量子点塌陷和盖层生长停顿后产生的量子点“挖空”现象。; 于2010-11-23批量导入; zhangdi于2010-11-23 13:03:52导入数据到SEMI-IR的IR; Made available in DSpace on 2010-11-23T05:03:52Z (GMT). No. of bitstreams: 1 4384.pdf: 256963 bytes, checksum: 07aa308006c1bf64c62111c97ade2287 (MD5) Previous issue date: 2005; 863计划,973计划,国家自然科学基金,集成光电子学国家重点联合实验室开放课题资助项目; 北京邮电大学理学院;中国科学院半导体研究所 |
| 学科主题 | 光电子学 |
| 收录类别 | CSCD |
| 资助信息 | 863计划,973计划,国家自然科学基金,集成光电子学国家重点联合实验室开放课题资助项目 |
| 语种 | 中文 |
| 公开日期 | 2010-11-23 ; 2011-04-29 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16839]  |
| 专题 | 半导体研究所_中国科学院半导体研究所（2009年前） |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 刘玉敏,俞重远,杨红波,等. 透镜形量子点的盖层和高宽比对应变场分布的影响[J]. 高技术通讯,2005,15(10):57-61. |
| APA | 刘玉敏,俞重远,杨红波,&黄永箴.(2005).透镜形量子点的盖层和高宽比对应变场分布的影响.高技术通讯,15(10),57-61. |
| MLA | 刘玉敏,et al."透镜形量子点的盖层和高宽比对应变场分布的影响".高技术通讯 15.10(2005):57-61. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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