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慢正电子对ZnO中本征缺陷的研究

文献类型:期刊论文

作者彭成晓 ; 翁惠民 ; 杨晓杰 ; 叶邦角 ; 周先意 ; 韩荣典
刊名核技术
出版日期2005
卷号28期号:11页码:841-844
中文摘要利用慢正电子研究了不同氧含量时射频磁控反应溅射制备的ZnO样品,观察到ZnO中本征缺陷(Vo,VZn)随混合气体中O2比例(PO2)的变化关系.结果表明
学科主题半导体材料
收录类别CSCD
资助信息国家自然科学基金项目
语种中文
公开日期2010-11-23
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/16845]  
专题半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前)
推荐引用方式
GB/T 7714
彭成晓,翁惠民,杨晓杰,等. 慢正电子对ZnO中本征缺陷的研究[J]. 核技术,2005,28(11):841-844.
APA 彭成晓,翁惠民,杨晓杰,叶邦角,周先意,&韩荣典.(2005).慢正电子对ZnO中本征缺陷的研究.核技术,28(11),841-844.
MLA 彭成晓,et al."慢正电子对ZnO中本征缺陷的研究".核技术 28.11(2005):841-844.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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