Optimization of Substrate Conformal Imprint Lithography (SCIL) and Etching for Nanostructure
文献类型：期刊论文
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| 作者 | Zhaoxin Geng; Xiangbin Guo; Qiang Kan; Hongda Chen |
| 刊名 | aip advances
 ; AIP advances
|
| 出版日期 | 2015 ; 2015 |
| 卷号 | 5期号:4页码:9-11 |
| 学科主题 | 光电子学 ; 光电子学 |
| 收录类别 | SCI |
| 语种 | 英语 ; 英语 |
| 公开日期 | 2016-03-22 ; 2016-03-22 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/26667]  |
| 专题 | 半导体研究所_光电子研究发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Zhaoxin Geng,Xiangbin Guo,Qiang Kan,et al. Optimization of Substrate Conformal Imprint Lithography (SCIL) and Etching for Nanostructure, Optimization of Substrate Conformal Imprint Lithography (SCIL) and Etching for Nanostructure[J]. aip advances, AIP advances,2015, 2015,5, 5(4):9-11, 9-11. |
| APA | Zhaoxin Geng,Xiangbin Guo,Qiang Kan,&Hongda Chen.(2015).Optimization of Substrate Conformal Imprint Lithography (SCIL) and Etching for Nanostructure.aip advances,5(4),9-11. |
| MLA | Zhaoxin Geng,et al."Optimization of Substrate Conformal Imprint Lithography (SCIL) and Etching for Nanostructure".aip advances 5.4(2015):9-11. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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