Investigation of diffusion length distribution on polycrystalline silicon wafers via photoluminescence methods
文献类型：期刊论文
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| 作者 | Shishu Lou; Huishi Zhu; Shaoxu Hu; Chunhua Zhao; Peide Han |
| 刊名 | scientific reports
 ; Scientific Reports
|
| 出版日期 | 2015 ; 2015 |
| 卷号 | 5页码:14084 |
| 学科主题 | 光电子学 ; 光电子学 |
| 收录类别 | SCI |
| 语种 | 英语 ; 英语 |
| 公开日期 | 2016-03-22 ; 2016-03-22 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/26689]  |
| 专题 | 半导体研究所_光电子研究发展中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Shishu Lou,Huishi Zhu,Shaoxu Hu,et al. Investigation of diffusion length distribution on polycrystalline silicon wafers via photoluminescence methods, Investigation of diffusion length distribution on polycrystalline silicon wafers via photoluminescence methods[J]. scientific reports, Scientific Reports,2015, 2015,5, 5:14084, 14084. |
| APA | Shishu Lou,Huishi Zhu,Shaoxu Hu,Chunhua Zhao,&Peide Han.(2015).Investigation of diffusion length distribution on polycrystalline silicon wafers via photoluminescence methods.scientific reports,5,14084. |
| MLA | Shishu Lou,et al."Investigation of diffusion length distribution on polycrystalline silicon wafers via photoluminescence methods".scientific reports 5(2015):14084. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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