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High performance 2150 nm-emitting InAs/InGaAs/InP quantum well lasers grown by metalorganic vapor phase epitaxy

文献类型:期刊论文

作者S. Luo ; H.M. Ji ; F. Gao ; F. Xu ; X.G. Yang ; P. Liang ; T. Yang
刊名optics express
出版日期2015
卷号23期号:7页码:8383-8388
学科主题半导体材料
收录类别SCI
语种英语
公开日期2016-03-22
源URL[http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/26720]  
专题半导体研究所_中科院半导体材料科学重点实验室
推荐引用方式
GB/T 7714
S. Luo,H.M. Ji,F. Gao,et al. High performance 2150 nm-emitting InAs/InGaAs/InP quantum well lasers grown by metalorganic vapor phase epitaxy[J]. optics express,2015,23(7):8383-8388.
APA S. Luo.,H.M. Ji.,F. Gao.,F. Xu.,X.G. Yang.,...&T. Yang.(2015).High performance 2150 nm-emitting InAs/InGaAs/InP quantum well lasers grown by metalorganic vapor phase epitaxy.optics express,23(7),8383-8388.
MLA S. Luo,et al."High performance 2150 nm-emitting InAs/InGaAs/InP quantum well lasers grown by metalorganic vapor phase epitaxy".optics express 23.7(2015):8383-8388.

入库方式: OAI收割

来源:半导体研究所

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