Dielectric microwave properties of Si-integrated pulsed laser deposited (Ba, Sr)TiO3 thin films up to 110 GHz
文献类型：期刊论文
| 作者 | Xi Ning ; Shuming Chen ; Jinying Zhang ; Hui Huang ; Lei Wang |
| 刊名 | applied physics letters
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| 出版日期 | 2015 |
| 卷号 | 107页码:052905 |
| 学科主题 | 微电子学 |
| 收录类别 | SCI |
| 公开日期 | 2016-04-08 |
| 源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/26983]  |
| 专题 | 半导体研究所_半导体集成技术工程研究中心 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Xi Ning,Shuming Chen,Jinying Zhang,et al. Dielectric microwave properties of Si-integrated pulsed laser deposited (Ba, Sr)TiO3 thin films up to 110 GHz[J]. applied physics letters,2015,107:052905. |
| APA | Xi Ning,Shuming Chen,Jinying Zhang,Hui Huang,&Lei Wang.(2015).Dielectric microwave properties of Si-integrated pulsed laser deposited (Ba, Sr)TiO3 thin films up to 110 GHz.applied physics letters,107,052905. |
| MLA | Xi Ning,et al."Dielectric microwave properties of Si-integrated pulsed laser deposited (Ba, Sr)TiO3 thin films up to 110 GHz".applied physics letters 107(2015):052905. |
入库方式： OAI收割
来源：半导体研究所
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