GAN_(1-x)P_x三元合金的MOCVD生长
文献类型:期刊论文
作者 | 陈敦军 ; 毕朝霞 ; 沈波 ; 张开骁 ; 顾书林 ; 张荣 ; 施毅 ; 胡立群 ; 郑有(火+斗) ; 孙学浩 ; 万寿科 ; 王占国 |
刊名 | 半导体学报
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出版日期 | 2002 |
卷号 | 23期号:7页码:782-784 |
中文摘要 | 用金属有机化学气相淀积技术在蓝宝石衬底上成功外延了高P组分的GaN_(1-x)P_x 三元合金。俄歇电子能谱深度剖面结果表明在GaN_(1-x)P_x 中P的掺入量最高达到20%且分布均匀;X射线光电子能谱价态分析证实了外延层中Ga-P键的存在。对不同P组分的GaN_(1-x)P_x 样品进行了低温光致发光(PL)测试,与来自GaN衬底的带边发射相比,随三元合金中P组分的变化,GaN_(1-x)P_x 的PL峰呈现出了不同程度的红移。在GaN_(1-x)P_x 的PL谱中没有观测到有关GaP的发射峰,表明该合金材料没有发生相分离。 |
英文摘要 | 用金属有机化学气相淀积技术在蓝宝石衬底上成功外延了高P组分的GaN_(1-x)P_x 三元合金。俄歇电子能谱深度剖面结果表明在GaN_(1-x)P_x 中P的掺入量最高达到20%且分布均匀;X射线光电子能谱价态分析证实了外延层中Ga-P键的存在。对不同P组分的GaN_(1-x)P_x 样品进行了低温光致发光(PL)测试,与来自GaN衬底的带边发射相比,随三元合金中P组分的变化,GaN_(1-x)P_x 的PL峰呈现出了不同程度的红移。在GaN_(1-x)P_x 的PL谱中没有观测到有关GaP的发射峰,表明该合金材料没有发生相分离。; 于2010-11-23批量导入; zhangdi于2010-11-23 13:08:16导入数据到SEMI-IR的IR; Made available in DSpace on 2010-11-23T05:08:17Z (GMT). No. of bitstreams: 1 5080.pdf: 218901 bytes, checksum: 04859fca42c91749f9e4b3587b5bff86 (MD5) Previous issue date: 2002; 国家重点基础研究专项(编号:G2 683),国家自然科学基金(批准号:6 136 2 ,69976 14,69987 1),国家高技术研究发展计划资助项目; 南京大学物理系;中国科学院半导体研究 |
学科主题 | 半导体材料 |
收录类别 | CSCD |
资助信息 | 国家重点基础研究专项(编号:G2 683),国家自然科学基金(批准号:6 136 2 ,69976 14,69987 1),国家高技术研究发展计划资助项目 |
语种 | 中文 |
公开日期 | 2010-11-23 ; 2011-04-29 |
源URL | [http://ir.semi.ac.cn/handle/172111/18067] ![]() |
专题 | 半导体研究所_中国科学院半导体研究所(2009年前) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈敦军,毕朝霞,沈波,等. GAN_(1-x)P_x三元合金的MOCVD生长[J]. 半导体学报,2002,23(7):782-784. |
APA | 陈敦军.,毕朝霞.,沈波.,张开骁.,顾书林.,...&王占国.(2002).GAN_(1-x)P_x三元合金的MOCVD生长.半导体学报,23(7),782-784. |
MLA | 陈敦军,et al."GAN_(1-x)P_x三元合金的MOCVD生长".半导体学报 23.7(2002):782-784. |
入库方式: OAI收割
来源:半导体研究所
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